一则报道引发全球半导体行业震动：中国的“曼哈顿计划”——EUV原型机建造成功了。中国科学家成功研制出极紫外光（EUV）光刻机，这台重达180吨的巨物占据了整个工厂车间，标志着中国在先进光刻技术领域实现关键突破