现在的位置:首页 > 会员中心 > 查看信息:发明专利都公布了,中国披露“极紫外光刻设备”的关键技术,光刻机迎来里程碑式进步,中国官宣高端氟化氩光刻机正式投产 提示信息 您还未登陆,点击这里进行登陆操作;注册请点击这里。 标题: 发明专利都公布了,中国披露“极紫外光刻设备”的关键技术,光刻机迎来里程碑式进步,中国官宣高端氟化氩光刻机正式投产 查看权限: 需要 [VIP会员] 级别以上才能查看。 发布时间: 2024-09-15 15:03:08 信息简介: 连发明专利都公布了!中国披露“极紫外光刻设备”的关键技术,光刻机迎来里程碑式进步。犹如一颗重磅炸弹,激起了全球科技街的波澜。印网民:印度应立即开始研究关键的芯片技术